Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 2114U001554, Матеріали видань та локальних репозитаріїв Категорія Стаття Назва роботи Structure and Properties NbN and Nb-Si-N Deposited by Magnetron Sputtering Автор Дата публікації 01-01-2014 Постачальник інформації Сумський державний університет Першоджерело http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/37153 Видання Sumy State University Опис NbN and Nb-Si-N films were deposited by magnetron sputtering the Nb and Si targets on silicon wafers at various bias voltage, Us. The films were investigated by an atomic force microscope (AFM), X-ray diffraction (XRD), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and nanoindentation. The deposited films were annealed to establish their thermal stability. The NbN films were nanostructured, and the Nb-Si-N films had a nanocomposite structure, and represented an aggregation of δ-NbNx nanocrystallites embedded into the amorphous Si3N4 tissue (nc-δ-NbNx/a-Si3N4). Додано в НРАТ 2025-05-12 Закрити