Знайдено документів: 1
Інформація × Реєстраційний номер 2114U001799, Матеріали видань та локальних репозитаріїв Категорія Стаття Назва роботи Development of Magnetic Field-enhanced Vacuum Arc Deposition in China Автор Дата публікації 01-01-2014 Постачальник інформації Сумський державний університет Першоджерело http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/37232 Видання Sumy State University Опис This paper reviews the latest research and development in China for magnetic field-enhanced vacuum arc deposition (MFE-VAD). China has developed some new technologies in MFE-VAD. These technologies are all based on the interaction between the magnetic field and cathode arc spot (and arc plasma). An external magnetic field can be applied to steer the cathode spot motion including axisymmetric magnetic field (AMF), transverse rotating magnetic field (TRMF) and coupling magnetic field (CMF). The transverse component of AFM can accelerate the cathode spot motion. The TRMF covered the whole cathode was generated by stationary three-phase windings carrying three-phase alternating currents. The CMF was designed to improve the increasing of plasma density and the collisions between ion and droplet-particls (DPs) charging, and as well as further purify the DPs. Додано в НРАТ 2025-05-12 Закрити
Матеріали
Стаття
Development of Magnetic Field-enhanced Vacuum Arc Deposition in China
Development of Magnetic Field-enhanced Vacuum Arc Deposition in China : публікація 2014-01-01; Сумський державний університет, 2114U001799
Знайдено документів: 1

Оновлено: 2026-03-14


Роздрукувати цю сторінку