Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 2115U000907, Матеріали видань та локальних репозитаріїв Категорія Стаття Назва роботи The Influence of the Ion Implantation of Au– to the Microstructure of the Amorphous-nanocrystaline AlN-TiB2-TiSi2 Автор Дата публікації 01-01-2015 Постачальник інформації Сумський державний університет Першоджерело http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/39090 Видання Sumy State University Опис Прямі вимірювання за допомогою TEM, HRTEM, XRD и SEM з мікроаналізом показали, що термічний відпал при 1300 °С на повітрі призводить до утворення нанорозмірних фаз 10÷15 нм з AlN, AlB2, Al2O3 і TiO2, а іонна імплантація негативних іонів Au- призводить до фрагментації (зменшення) розмірів нанозерен до 2-5 нм з утворенням «сфероїдів» з Au– і формуванню аморфної оксидної плівки в глибині (приповерхневому шарі) покриття. Прямые измерения с помощью TEM, HRTEM, XRD и SEM с микроанализом показали, что термический отжиг 1300 С на воздухе приводит к образованию наноразмерных фаз 1015 нм из AlN, AlB2, Al2O3 и TiO2, а ионная имплантация отрицательных ионов Au- приводит к фрагментации (уменьшению) размеров нанозерен до 2-5 нм с образованием «сфероидов» из Au– и формированию аморфной оксидной пленки в глубине (приповерхностном слое) покрытия. Direct measurements were performed using TEM, HRTEM, XRD and SEM with microanalysis. The results showed that the thermal annealing at 1300 С in air leads to the formation of nanoscale phases 1015 nm from AlN, AlB2, Al2O3 and TiO2. Moreover, the ion implantation of the negative ions Au– causes fragmentation (decrease) of the size of nanograins to 2-5 nm with the formation of Au– clusters. In addition, the ion implantation leads to the formation of an amorphous oxide film in the depth (at the undersurface layer) of the coating. Додано в НРАТ 2025-03-24 Закрити