Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 2117U000573, Матеріали видань та локальних репозитаріїв Категорія Бакалаврська робота Назва роботи Вплив лазерного випромінювання на формування нанокристалів при індукованій оловом кристалізації аморфного кремнію Автор Ольховик Ілля Володимирович Дата публікації 01-01-2017 Постачальник інформації Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського» Першоджерело https://ela.kpi.ua/handle/123456789/61493 Видання Київ Опис Методом комбінаційного розсіювання світла тонкоплівковими структурами Si-Sn-Si досліджено процеси індукованої оловом кристалізації аморфного кремнію під дією різних видів лазерного опромінення. Визначені співвідношення аморфної і кристалічної фаз кремнію та розміри кристалів Si, що утворюються в матриці аморфного Si під час одиночного імпульсу лазерного опромінення різної потужності. Експериментально визначені та проаналізовані залежності розмірів та концентрації нанокристалів Si від потужності лазерних імпульсів тривалістю 10 нс та 150 мкс з довжиною хвилі 535 нм та 1070 нм. Показано можливість ефективної оловом індукованої трансформації кремнію із аморфної фази в кристалічну за час порядку 10 нс в шарах а-Si товщиною 200 нм під дією лазерного світла. Теоретичний розрахунок просторового і часового розподілу температур в зоні дії лазерного променю використано для інтерпретації експериментальних результатів. Додано в НРАТ 2025-01-29 Закрити