Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 2118U001454, Матеріали видань та локальних репозитаріїв Категорія Стаття Назва роботи The Effect of Constant and High Voltage Pulse Bias Potentials on the Structure and Properties of Vacuum-Arc (TiVZrNbHf)Nх Coatings Автор Дата публікації 01-01-2018 Постачальник інформації Сумський державний університет Першоджерело http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/68681 Видання Sumy State University Опис The effect of constant (Ub) and high voltage pulse (Uip) bias potentials supplied to the substrate during condensation, on the structure and properties of vacuum-arc (TiVZrN-Hf)Nх coatings has been studied. It has been determined that the number and size of the drop phase decreases with increasing Ub. The use of Uip promotes a more uniform growth in the coating volume. It is shown that due to the increase of Ub from 0 to 200 V in nitride coatings of high entropy alloys, it is possible to change the growth texture [100] to [111]. This results in increased hardness from 32 GPa to 49 GPa. The supply of high voltage potential in a pulse form leads to a relative decrease in the average size of crystallites and the formation of a bi-texture state. Conditions and mechanisms of the preferential crystallites orientation (axial texture) of vacuum arc (TiVZrNbHf)Nх coatings and texture influence on mechanical properties have been discussed. Досліджено вплив постійного (Ub) і високовольтного імпульсного (Uip) потенціалів зміщення, що подаються на підкладку при конденсації, на структуру і властивості вакуумно-дугових (TiVZrNbHf)Nх покриттів. Встановлено, що зі збільшенням Ub зменшується число і розмір крапельної фази. Використання Uip сприяє однорідної морфології зростання в об'ємі покриття. Показано, що за рахунок збільшення Ub від 0 до 200 В в нітридних покриттях високоентропійних сплавів можна змінити текстуру росту [100] на [111]. Це призводить до збільшення твердості від 32 ГПа до 49 ГПа. Подача високовольтного потенціалу в імпульсної формі призводить до відносного зменшення середнього розміру кристалітів і формуванню бітекстурного стану. Обговорено умови і механізми формування переважної орієнтації кристалітів (аксіальної текстури) вакуумно-дугових (TiVZrNbHf)Nх покриттів і вплив текстури на механічні властивості. Изучено влияние постоянного (Ub) и высоковольтного импульсного (Uip) потенциалов смещения, подаваемых на подложку при конденсации, на структуру и свойства вакуумно-дуговых (TiVZrNbHf)Nх покрытий. Установлено, что с увеличением Ub уменьшается число и размер капельной фазы. Использование Uip способствует однородной морфологии роста в объеме покрытия. Показано, что в результате увеличения Ub от 0 до 200 В в нитридных покрытиях высокоэнтропийных сплавов можно изменить текстуру роста [100] на [111]. Это приводит к увеличению твердости от 32 ГПа до 49 ГПа. Подача высоковольтного потенциала в импульсной форме приводит к относительному уменьшению среднего размера кристаллитов и формированию битекстурного состояния. Обсуждены условия и механизмы формирования преимущественной ориентации кристаллитов (аксиальной текстуры) вакуумно-дуговых (TiVZrNbHf)Nх покрытий и влияние текстуры на механические свойства. Додано в НРАТ 2025-03-24 Закрити