Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 2121U004020, Матеріали видань та локальних репозитаріїв Категорія Бакалаврська робота Назва роботи Особливості процесу іонної імплантації як базової інтегральної технології Автор Дата публікації 01-01-2021 Постачальник інформації Сумський державний університет Першоджерело https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/84522 Видання Сумський державний університет Опис Об’єктом дослідження кваліфікаційної роботи є процес іонної імплантації та його застосування в технології виготовлення елементів електроніки. Мета роботи полягає у вивчені технології іонної імплантації та її застосування в електронному приладобудуванні, відпрацюванні алгоритмів комп’ютерного моделювання, аналізу експериментальних даних та симуляції процесів. Робота складається із вступу, трьох розділів основної частини та висновків. У першому розділі наведено поняття іонної імплантації, особливості процесу та дефекти, що утворюються. У другому розділі розглядається пакет програмного середовища Silvaco TCAD та особливості методики моделювання. У третьому розділі було проведено моделювання процесу іонної імплантації з урахуванням різних ступенів дефектності мішеней та зроблено аналіз отриманих результаті в рамках моделей Гауса, Пірсона та SDVP. Додано в НРАТ 2025-05-12 Закрити