Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 2121U008176, Матеріали видань та локальних репозитаріїв Категорія Бакалаврська робота Назва роботи Віртуальна метрологія контролю якості напівпровідникових пластин Автор Войтенко Богдан ОлександровичVoitenko Bohdan Oleksandrovych Дата публікації 01-01-2021 Постачальник інформації Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського» Першоджерело https://ela.kpi.ua/handle/123456789/42317 Видання Київ Опис Дипломну роботу виконано на 61 аркуші, вона містить перелік посилань на використані джерела з 48 найменувань. У роботі наведено 12 рисунків та 6 таблиць. Метою роботи є аналіз існуючих систем віртуальної метрології для контролю якості напівпровідникових пластин. Аналіз безперервного контролю та його переваг, а також важливості адаптивного оновлення. У цій роботі будуть розглянуті методи створення систем ВМ, методики та алгоритми які використовуються при їх створенні, такі як, наприклад, покрокова лінійна регресія, дерево рішень, GA з лінійної регресією, GA з опорної векторної регресією (SVR), PCA і KPCA. Також буде розглянуто підвищення продуктивності системи ВМ за допомогою безперервного контролю. В кінці, ми розглянемо використання адаптивного оновлення системи віртуальної метрології, та проаналізуємо його важливість. У першому розділі дипломної роботи було розглянуто дослідження з використанням віртуальної метрології для контролю якості напівпровідникових пластин. У другому розділі дипломної роботи було розглянуто поетапне створення системи віртуальної метрології, в котрій, до того ж, було покращено продуктивність шляхом використання безперервного контролю, та наглядне порівняння такої системи з системою без безперервного контролю. У третьому розділі було представлено систему віртуальної метрології з адаптивним оновленням, присутні також пояснення чому адаптивне оновлення необхідне та як воно працює. У четвертому розділі я проаналізував використання методу віртуальної метрології для контролю напівпровідникових пластин. The thesis is presented in 61 pages. This paper contains alist of 48 references that I used, 12 figures and 6 tables. The aim of the work is to analyze the existing systems of virtual metrology for quality control of semiconductor wafers. Analysis of continuous monitoring and its benefits, as well as the importance of adaptive updating. This paper will consider the methods of creating VM systems, techniques and algorithms used in their creation, such as, for example, stepwise linear regression, decision tree, GA with linear regression, GA with reference vector regression (SVR), PCA and KPCA. Increasing the performance of the VM system through continuous monitoring will also be considered. Finally, we will consider the use of an adaptive update of the virtual metrology system, and analyze its importance. In the first section of the thesis was considered a study using virtual metrology to control the quality of semiconductor wafers. The second section of the thesis considered the gradual creation of a system of virtual metrology, which, in addition, improved performance through the use of continuous monitoring, and a visual comparison of such a system with a system without continuous monitoring. The third section presents a system of virtual metrology with adaptive updating, there are also explanations why adaptive updating is necessary and how it works. In the fourth section, I analyzed the use of virtual metrology for quality control semiconductor wafers. Додано в НРАТ 2025-11-05 Закрити