Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0203U002466, 0100U003301 , Науково-дослідна робота Назва роботи Дослідження умов формування потоків заряджених частинок низьких та середніх енергій, методів керування їх параметрами та взаємодії синтезованих потоків з поверхнями твердих тіл Назва етапу роботи Керівник роботи Фареник В.І., Дата реєстрації 23-06-2003 Організація виконавець Харківський національний університет імені В.Н. Каразіна Опис етапу Об'єкт дослідження: газові розряди у постійному та ВЧ електричному комбінованих полях; низькоенергетичні іонні та електронні потоки, що можуть використовуватися у вакуумно-плазмових технологіях осадження простих та синтезованих покриттів; поверхня твердого тіла під дією низькоенергетичних іонних потоків. Мета роботи: дослідження процесів генерації заряджених частинок у комбінованому магнетронному — ВЧ-індукційному розряді, методів керування потоками заряджених та нейтральних частинок в умовах роздільної зони генерації плазми і формування потоків та процесів зародження і зростання трьохвимірових тонкоплівкових структур при взаємодії синтезованих потоків з поверхнею твердого тіла. Методи дослідження: експериментальні дослідження розрядних характеристик плазмових систем, параметрів плазми та енергетичних спектрів іонних та електронних потоків, дослідження фізико-хімічних властивостей тонкоплівкових структур. Експериментально встановлено модифікований закон Пашена для пробою газу низького тиску в однорідному постійному електричному полі Udc=f(pL, L/R), тобто напруга пробою Udc виявляється як функцією добутку тиску газу та величини зазора pL, так і функцією відношення величини зазора до радіуса розрядної камери L/R. Досліджені умови формування подвійного електричного шару на фронті щільної анодної плазми у випадку термічного випару матеріалу анода під впливом електронного пучка в пристроях із плазмовим емітером електронів. Визначено умови стабілізації подвійного шару на фронті щільної анодної плазми, а також основні залежності для розрахунку систем термоіонного осадження з плазмовим емітером. Встановлен ефект зростання новоутворень у вигляді листів на поверхні твердого тіла під час розпилення потоками заряджених та нейтральних атомарних частинок. Проведені дослідження показали, що серед параметрів, які впливають на зростання новоутворень при низьких температурах підкладки, слід враховувати струм розряду, природу робочого газу, чистоту поверхні катоду, його хімічний склад і структуру. Особливу роль відіграють процеси масоперенесення, які в цьому випадку мають складний характер. Опис продукції Автори роботи Додано в НРАТ 2020-04-02 Закрити