Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0212U000447, 0110U006385 , Науково-дослідна робота Назва роботи Розроблення нанотехнологій молекулярно-променевої епітаксії та сфокусованих іонних пучків для їх використання на виробництві нанотехнологічного комплексу "НаноФАБ" Назва етапу роботи Керівник роботи Галстян Геворк Гагикович, Дата реєстрації 13-02-2012 Організація виконавець Публічне акціонерне товариство "Науково-виробничий концерн "Наука" Опис етапу Проведено інсталяцію надвисоковакуумного (граничний тиск <=1,3х10-9 Па) трьохкамерного нанотехнологічного комплексу "Нанофаб-100". Розроблена функціональна схема НТК, яка передбачає розширення комплексу через додавання до існуючих камер модулів молекулярно-променевої епітаксії (МПЕ) та сфокусованих іонних пучків (СФІП). Оптимізовано робочий проект інфраструктури для забезпечення нормального функціонування НТК "НаноФаб-100" з модулем СФІП. На базі існуючої вакуумної схеми НТК "НаноФаб-100" проведено розрахунок основних параметрів вакуумної системи модулів СФІП та МПЕ, а також досліджені можливості оптимізації вакуумної системи комплексу. Розроблена ескізна конструкторська документація для вакуумної системи та вакуумної камери модуля СФІП, на основі якої виготовлено експериментальний зразок надвисоковакуумної камери модуля СФІП сферичної форми з 14 фланцями без додаткових патрубків. Для забезпечення транспортування технологічних пластин між модулем СФІП та камерами НТК "Нанофаб-100" без розгерметизації комплексу розроблений маршрут транспортної системи. Розроблені та відпрацьовані методики модифікації поверхні гетероструктур за допомогою модуля СФІП - методики іонної різки та нанолокального травлення, з їх подальшої діагностикою за розробленими методами скануючої зондової мікроскопії в аналітичній камері НТК. Проведено комплексні випробування модифікованого експериментального зразка НТК. Опис продукції Розроблені нанотехнології на базі високовакуумного трьохмодульного нанотехнологічного комплексу "Нанофаб-100" (НТК) для проведення процесів послідовної локальної модифікації поверхні твердотільних зразків з використанням розроблюваного модуля сфокусованих іонних пучків, а також для проведення технологічних процесів одночасно по всій поверхні зразка (пластин) - технології нанолокального травлення та іонної різки. Автори роботи Євсюков А.М. Євтух А.А. Анікеєв В.В. Бевз В.П. Богомолова .С.В. Бударіна Н.М. Велика Л.М. Величко Л.О. Верига Д.В. Ворона С.П. Галстян Г.Г. Глуховська Ю.Ю. Головко В.П. Гончаров С.М. Долголенко О.М. Журавльов Б.Х. Каіра В.В. Калініченко Т.Є. Карпенко П.Д. Карплюк Г.Ю. Карушкін М.Ф. Кода В.Ю. Козійчук С.О. Козійчук Т.В. Копосова В.С. Котенко Є.Л. Кравчун А.М. Лєпєєва Ю.В. Ларкін Д.С. Лопатіна Г.М. Луценко Г.В. Мазанко В.Ф. Мартинюк І.Д. Марченко Р.В. Межибовський А.П. Мельник О.А. Мовчан Д.М. Молебний О.А. Мясоєдов О.В. Некоз С.О. Овсянніков О.В. Пастушенко Т.А. Пастушенко Ю.М. Педченко Ю.М. Подолян О.В. Подолян О.М. Потапов Д.А. Резник Д.С. Сірош В.О. Семенова Ю.С. Сидорченко І.М. Скоблік О.П. Скульська Л.О. Тищенко А.І. Тищенко Л.О. Філатов С.А. Філатова В.С. Фоменко С.Є. Черепаха В.В. Черепова Т.С. Шевченко В.І. Юріліна Н.А. Додано в НРАТ 2020-04-02 Закрити