Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0213U001285, 0111U002282 , Науково-дослідна робота Назва роботи Дослідження можливості розширення спектрального діапазону застосування нанорозмірних багатошарових покриттів для відбивної та зображувальної рентгенівської оптики Назва етапу роботи Керівник роботи Кондратенко Валерій Володимирович, Дата реєстрації 08-02-2013 Організація виконавець Національний технічний університет "Харківський політехнічний інститут" Опис етапу Об'єкт дослідження: нанорозмірні багатошарові покриття з нанометровою та субнанометровою товщиною шарів (Sb, W, Мо, Si, C, B4C) їх структурні та субструктурні особливості, особливості формування міжфазних між розділу. Мета роботи: Вивчання композицій на основі пар матеріалів W/B4C, Co/C, Sb/B4C і Mo/Si; дослідження змін в структурі і складі шарів в нанорозмірних багатошарових покриттях (НБП) при зменшені їхньої товщини менше 1 нм, початкових стадій перемішування й взаємодії сусідніх шарів під час росту, змін структури під термічною дією; випробуванння нової перспективної пари матеріалів для НБП Sb/B4C. Методи дослідження: малокутова рентгенівська рефлектометрія, рентгенівський фазовий аналіз, високороздільна електронна просвічувальна мікроскопія з використанням технології поперечних зрізів, рефлектометрія в м'якому рентгенівському діапазоні. Наукове та практичне значення отриманих результатів полягає в одержанні нових даних про особливості зростання тонких шарів (<10 нм) і взаємодію і взаємну дифузію, яка проходе на міжфазних кордонах в нанорозмірних багатошарових покриттях (метал)/(Si, C, B4C) у областях з субнанометровим розміром. Вдосконалена технологія виготовлення НБП з товщиною шарів менше 2 нм (Sb/B4C, Co/C, W/B4C) і розвинені методики аналізу НБП різних пар матеріалів з субнанометровою товщиною шарів і міжфазних прошарків. Розроблена технологія контрольованого осадження НБП Co/C на криволінійні підкладки з опуклою і увігнутою формою з субангстремною точністю відтворення товщини шарів і заданим розподілом товщини шарів по поверхні. Вдосконалена технологія виготовлення короткоперіодних НБП W/B4C з товщиною шарів менше 1,5 нм, за рахунок чого підвищена їх відбивна здатність в м'якої рентгенівської області (0,8-3 нм) мінімум в 1,4 разу. Розроблена технологія виготовлення нової перспективної пари матеріалів Sb/B4C, придатної для створення рентгенівської оптики ( =6,7-12,3 нм) для рентгенівських літографів нового покоління. Розроблені методи і технології дозволяють виготовляти елементи рентгенівської оптики і об'єктиви для систем, що зображують. Опис продукції Удосконалена технологія та створені нанорозмірні багатошарові покриття (НБП) з товщиною шарів 0,5-2 нм із Co, C, W, Sb, B4C для застосування у якості рентгенівських дзеркал в область довжин хвиль 0,5-8 нм. Автори роботи Бугаєв Єгор Анатоліойвич Девізенко Олександр Юрійович Журавель Ігор Олександрович Зубарєв Євген Миколайович Кондратенко Валерій Володимирович Конотопський Леонід Євгенович Копилець Ігор Анатолійович Мішньова Надія Кузьмівна Першин Юрій Павлович Севрюкова Вікторія Анатоліївна Додано в НРАТ 2020-04-02 Закрити