Пошук академічних текстів

Інформація × Реєстраційний номер 0593U000356, Докторська дисертація На здобуття д.ф.-м.н. Дата захисту 24-09-1993 Статус Запланована Назва роботи Процессы формирования диэлектрических и приповерхностных полупроводниковых слоев в кремниевых структурах при неравновесных воздействиях Здобувач Назаров Алексей Николаевич, Керівник Лысенко В.С. Опонент Литовченко В.Г. Опонент Жарких Ю.С. Опонент Дякин В.В. Опис Объект исследования: Системы SiO2-Si, ионная имплантация, плазменно-водородная обработка, неравновесные обработки. Цель исследования: Выяснение природы процессов, происходящих при модификации кремниевых и диэлектричекских слоев с помощью ионной имплантации и плазменно-водородной обработки. Методы исследования и аппаратура: Термоактивационные методы, фотолюминесценция, КРС, ЭПР; спектрометры. Теоретические результаты и новизна: Разработана модкль ВЧ плазменного ускоренного отжига вакансионных днфектов. Практические результаты и новизна: Разработаны новые технологические способы низкотемпературного упорядочения дефектных полупроводниковых структур. Предмет и степень внедрения: Разработанные методы обработки используются в микроэлектронной промышленности. Сфера (область) использования: Технология полупроводниковых приборов и ИС. Дата реєстрації 1993-03-13 Додано в НРАТ 2021-03-17 Закрити