Знайдено документів: 1
Інформація × Реєстраційний номер 2122U001533, Матеріали видань та локальних репозитаріїв Категорія Бакалаврська робота Назва роботи Гальванічні покриття в приладобудуванні. Розробка технології міднення струмопровідного рисунку плат друкованого монтажу Автор Мельник Олексій Олександрович Дата публікації 01-06-2022 Постачальник інформації Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського» Першоджерело https://ela.kpi.ua/handle/123456789/56498 Видання Київ Опис Developed the technology of copper plating of the conductive pattern of printed circuit boards. The diploma project includes: the necessary calculations, the choice of bath for electrolysis, the process itself, and its automatic regulation. Calculated technical and economic indicators of the developed shop according to the set production program (12 thousand PCB / year.) The method of reagent wastewater treatment is used in the work. The analysis of toxic substances and hazards at the plant is carried out in accordance with the requirements of labor protection and fire safety. Розроблено технологію міднення струмопровідного рисунку друкованих плат з сульфатного електроліту з добавкою GrundeinebnerCupracid. В дипломному проєкті проведені необхідні технологічні розрахунки, обрано ванну для електролізу, розроблено схему автоматичного регулювання процесів. Обраховано техніко-економічні показники запропонованої технології з заданою виробничою програмою (12 тис. плат/рік). Для очищення стічних вод, що утворюються в технологічному процесі, запропоновано застосовувати метод реагентного очищення. Аналіз токсичних речовин та небезпечних факторів на підприємстві проводять відповідно до вимог охорони праці та пожежної безпеки. Додано в НРАТ 2025-01-29 Закрити
Матеріали
Бакалаврська робота
Мельник Олексій Олександрович. Гальванічні покриття в приладобудуванні. Розробка технології міднення струмопровідного рисунку плат друкованого монтажу : публікація 2022-06-01; Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського», 2122U001533
Знайдено документів: 1

Оновлено: 2026-03-29