Як користуватися пошуком
Знайдено документів: 6
НДДКР ОК
Розвиток новітніх фізико-технологічних засад створення багатошарових багатокомпонентних нітридних або карбонітридних наноструктурних покриттів та вивчення взаємодії з різними матеріалами. Дослідження процесів утворення комплексних поверхневих шарів, що володіють підвищеними характеристиками, що містять Cr, Ti, Zr, Hf, Та, Si, B, C, Mo, за допомогою вакуумного активованого дифузійного насичення і газофазного осадження (CVD) на сталях, тугоплавких металах і вуглецевих матеріалах для використання в космічній техніці, авіаційній та атомній промисловості, машинобудуванні.
Керівник: Руденький Сергій Георгійович. Розвиток новітніх фізико-технологічних засад створення багатошарових багатокомпонентних нітридних або карбонітридних наноструктурних покриттів та вивчення взаємодії з різними матеріалами. Дослідження процесів утворення комплексних поверхневих шарів, що володіють підвищеними характеристиками, що містять Cr, Ti, Zr, Hf, Та, Si, B, C, Mo, за допомогою вакуумного активованого дифузійного насичення і газофазного осадження (CVD) на сталях, тугоплавких металах і вуглецевих матеріалах для використання в космічній техніці, авіаційній та атомній промисловості, машинобудуванні.. (Етап: Розробка технології та спеціалізованого обладнання для реалізації методом CVD процесу нанесення Та-покриттів (до 250мкм) на бокову поверхню нейтроноутворюючих вольфрамових елементів мішені для установки «Джерело нейтронів».). Національний науковий центр "Харківський фізико-технічний інститут" Національної академії наук України. № 0225U004702
НДДКР ОК
Розвиток новітніх фізико-технологічних засад створення багатошарових багатокомпонентних нітридних або карбонітридних наноструктурних покриттів та вивчення взаємодії з різними матеріалами. Дослідження процесів утворення комплексних поверхневих шарів, що володіють підвищеними характеристиками, що містять Cr, Ti, Zr, Hf, Та, Si, B, C, Mo, за допомогою вакуумного активованого дифузійного насичення і газофазного осадження (CVD) на сталях, тугоплавких металах і вуглецевих матеріалах для використання в космічній техніці, авіаційній та атомній промисловості, машинобудуванні.
Керівник: Руденький Сергій Георгійович. Розвиток новітніх фізико-технологічних засад створення багатошарових багатокомпонентних нітридних або карбонітридних наноструктурних покриттів та вивчення взаємодії з різними матеріалами. Дослідження процесів утворення комплексних поверхневих шарів, що володіють підвищеними характеристиками, що містять Cr, Ti, Zr, Hf, Та, Si, B, C, Mo, за допомогою вакуумного активованого дифузійного насичення і газофазного осадження (CVD) на сталях, тугоплавких металах і вуглецевих матеріалах для використання в космічній техніці, авіаційній та атомній промисловості, машинобудуванні.. (Етап: Дослідження процесів утворення комплексних поверхневих слоїв, що володіють підвищеними характеристиками, що містять Cr, Ti, Si, B, Mo, за допомогою вакуумного активованого дифузійного насичення тугоплавких металів, сталей і вуглецевих матеріалів для використання в космічній техніці та атомної, машинобудуванні.). Національний науковий центр "Харківський фізико-технічний інститут" Національної академії наук України. № 0225U000027
НДДКР ОК
Розвиток новітніх фізико-технологічних засад створення багатошарових багатокомпонентних нітридних або карбонітридних наноструктурних покриттів та вивчення взаємодії з різними матеріалами. Дослідження процесів утворення комплексних поверхневих шарів, що володіють підвищеними характеристиками, що містять Cr, Ti, Zr, Hf, Та, Si, B, C, Mo, за допомогою вакуумного активованого дифузійного насичення і газофазного осадження (CVD) на сталях, тугоплавких металах і вуглецевих матеріалах для використання в космічній техніці, авіаційній та атомній промисловості, машинобудуванні.
Керівник: Руденький Сергій Георгійович. Розвиток новітніх фізико-технологічних засад створення багатошарових багатокомпонентних нітридних або карбонітридних наноструктурних покриттів та вивчення взаємодії з різними матеріалами. Дослідження процесів утворення комплексних поверхневих шарів, що володіють підвищеними характеристиками, що містять Cr, Ti, Zr, Hf, Та, Si, B, C, Mo, за допомогою вакуумного активованого дифузійного насичення і газофазного осадження (CVD) на сталях, тугоплавких металах і вуглецевих матеріалах для використання в космічній техніці, авіаційній та атомній промисловості, машинобудуванні.. (Етап: ). Національний науковий центр "Харківський фізико-технічний інститут" Національної академії наук України. № 0224U000178
НДДКР ОК
Розвиток новітніх фізико-технологічних засад створення багатошарових багатокомпонентних нітридних або карбонітридних наноструктурних покриттів та вивчення взаємодії з різними матеріалами. Дослідження процесів утворення комплексних поверхневих шарів, що володіють підвищеними характеристиками, що містять Cr, Ti, Zr, Hf, Та, Si, B, C, Mo, за допомогою вакуумного активованого дифузійного насичення і газофазного осадження (CVD) на сталях, тугоплавких металах і вуглецевих матеріалах для використання в космічній техніці, авіаційній та атомній промисловості, машинобудуванні.
Керівник: Руденький Сергій Георгійович. Розвиток новітніх фізико-технологічних засад створення багатошарових багатокомпонентних нітридних або карбонітридних наноструктурних покриттів та вивчення взаємодії з різними матеріалами. Дослідження процесів утворення комплексних поверхневих шарів, що володіють підвищеними характеристиками, що містять Cr, Ti, Zr, Hf, Та, Si, B, C, Mo, за допомогою вакуумного активованого дифузійного насичення і газофазного осадження (CVD) на сталях, тугоплавких металах і вуглецевих матеріалах для використання в космічній техніці, авіаційній та атомній промисловості, машинобудуванні.. (Етап: ). Національний науковий центр "Харківський фізико-технічний інститут" Національної академії наук України. № 0222U005283
НДДКР ОК
Розробка фізико-технологічних основ формування надтвердих інноваційних наношарових покриттів на оброблених іонами в газовій плазмі поверхнях
Керівник: Андреєв Анатолій Опанасович. Розробка фізико-технологічних основ формування надтвердих інноваційних наношарових покриттів на оброблених іонами в газовій плазмі поверхнях. (Етап: ). Національний науковий центр "Харківський фізико-технічний інститут" Національної академії наук України. № 0221U106788
НДДКР РК
Розробка фізико-технологічних основ формування надтвердих інноваційних наношарових покриттів на оброблених іонами в газовій плазмі поверхнях
Керівник: Андреєв Анатолій Опанасович. Розробка фізико-технологічних основ формування надтвердих інноваційних наношарових покриттів на оброблених іонами в газовій плазмі поверхнях. Національний науковий центр "Харківський фізико-технічний інститут" Національної академії наук України. № 0120U102312
Знайдено документів: 6

Оновлено: 2026-11-03


Роздрукувати цю сторінку